Fundamentals of silicon integrated device technology

Colaborador(es): Burger, R. M | Donovan, R. PTipo de material: TextoTextoSeries Prentice-Hall electrical engineering seriesEditor: Englewood Cliffs, New Jersey : Prentice-Hall, 1967Descripción: 2 v. : ilTipo de contenido: text Tipo de medio: unmediated Tipo de portador: volumeTema(s): SILICONAS | MICROELECTRONICAClasificación CDD: 621.3817
Contenidos:
v.1 Oxidation, diffusion and epitaxy - v.2 Bipolar and unipolar transistors
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v.1 Oxidation, diffusion and epitaxy - v.2 Bipolar and unipolar transistors